光致抗蚀剂的拼音及详细解释

【词语名称】光致抗蚀剂（guangzhikangshiji）

【词语拼音】guang zhi kang shi ji

【词语读音】guāng zhì kàng shí jì

【词语简拼】GZKSJ

【网络释义】 光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。

【分字组词】光字组词 剂字组词 抗字组词 致字组词 蚀字组词